Orion III等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)
Orion III等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统可适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片(2”- 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产提供先进的沉积能力。
Orion III系统用于非发火PECVD工艺。沉积薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅。工艺气体：<20%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧和氮。
该设备可选配一个ICP或三极管（Triode）源。三极管使得用户可以创建高密度等离子，从而控制薄膜应力。
通过打开室盖，直接将基片装入工艺室。