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等离子体增强化学气相沉积系统CVD
等离子体增强化学气相沉积系统CVD

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等离子体增强化学气相沉积系统CVD

品牌

安徽泽攸

产地

安徽

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安徽泽攸科技有限公司

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    目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上(如金属、氧化物、半导体表面)直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料,用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价,且具有传统半导体生长工艺的兼容性。

    等离子体增强化学气相沉积系统CVD等离子体增强化学气相沉积系统技术参数

    应用案例

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      CVD应用——外延Graphene/BN异质结与摩尔超晶格

      CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展

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      CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控

      CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控2

      CVD应用——外延构筑各种MoS2范德华异质结

      CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长

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