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衬底激光成片设备
衬底激光成片设备

参考价格

面议

型号

CH002

品牌

产地

武汉

样本

暂无
硅来半导体(武汉)有限公司

高级会员

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第1年

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生产商

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核心参数
标签:

半导体行业专用仪器

CH002

国产半导体行业专用仪器

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设备型号

CH002


功能特点

凭借前沿的激光器与精密光路系统,在切割过程中,不仅能大幅削减改质层厚度,有效降低对晶片后续性能的潜在影响,还显著提升了加工效率,提升产能。


应用场景

广泛应用于半导体硬脆材料的切割,适用于不同尺寸和厚度的晶片切割。


产品参数


项目

参数

操作模式

自动/半自动模式

隐切范围

6-inch/8-inch

操作盘

微孔陶瓷承盘具备 blow/vacuum功能

X向**速度

1200mm/s

Y向**速度

800mm/s

激光器

10000小时稳定工作时长

视觉单元

低倍数视觉相机

全景识别测高相机

自动寻焦自定义区域隐切

设备尺寸(W*D*H)

1430mm×1460mm×1960mm

设备质量

约2500KG


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