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垂直离子溅射镀膜机
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型号：IBSV-1030
特点：
a)基板垂直放置，水平监控；
b)转靶左右可调，保证靶面中心和离子源**距离；
c)基板：12吋×1 ;
d)靶材：两靶或三靶可更换；
e)多光路监控。
f)工件夹具：12吋
工艺参数：
1）真空系统
a)极限真空度：4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用时间 10 Pa：≦ 10 分钟
c)漏率：3.0×10-5Pa m3/se
型号：IBSV-1030
特点：
a)基板垂直放置，水平监控；
b)转靶左右可调，保证靶面中心和离子源**距离；
c)基板：12吋×1 ;
d)靶材：两靶或三靶可更换；
e)多光路监控。
f)工件夹具：12吋
工艺参数：
1）真空系统
a)极限真空度：4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用时间 10 Pa：≦ 10 分钟
c)漏率：3.0×10-5Pa m3/se
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