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水平离子溅射镀膜设备
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工艺参数：
一，真空系统
1、极限真空度：4.0×10-5Pa
2、抽至10Pa所用时间：≦ 10 分钟
3、漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec
二，控制精度
1、靶材旋转：0.005°
2、工件旋转:<1000RPM
3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板：0.005°
5、挡板: position switch
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