本图片来自深圳森泽工业品有限公司提供的日本 FUJI Tough‑Plasma FFP20‑ST 强力等离子处理机 表面改性,型号为FFP20‑ST 的日本 FUJI Tough‑Plasma半导体行业专用仪器,产地为日本,属于品牌,参考价格为 1万元以下,公司还可为用户供应高品质的日本MARKTEC Super‑Light D‑10L 便携式紫外线探伤黑光灯、德国 Dr.Fritsch LSP‑100 FAST‑SPS放电等离子烧结压力机 小型烧结炉等产品。深圳森泽工业品有限公司是中国粉体网的金牌会员,合作关系长达1年,工商信息已通过人工核验,获得粉享通诚信认证,请放心选择!
看了日本 FUJI Tough‑Plasma FFP20‑ST 强力等离子处理机 表面改性的用户又看了
- 推荐专场
- 同类产品
- 该厂商产品
- 相关厂商
- 推荐品牌
- 最新产品
- 煤炭行业专用仪器
- 3D打印机
- 安全防护用品
- 环境试验箱
- 电化学仪器
- 电子测量仪器
- 仪器专用配件
- 工业在线及过程控制仪器
- 光学仪器及设备
- 生物耗材
- 试验机
- 相关仪表
- X射线仪器
- 波谱仪器
- 常用器具/玻璃耗材
- 辐射测量仪器
- 气体检测仪
- 水质分析
- 应急/便携/车载
- 成像系统
- 动物实验仪器
- 分子生物学仪器
- 临床检验仪器设备
- 生物工程设备
- 小型台式无掩模光刻系统
- AXle高速数据采集
- 便携式高分辨率系统
- U1056B
- LXI模块任意波形发生器
- VME/VXS板卡具有板载信号处理能力的10至14位高速数
- PXI卡任意波形发生器
- PXI卡8位高速数字化仪
- PXIe卡12位中频数字化仪
- PCI板卡具有板载信号处理能力的8位高速数字化仪
- PCI板卡12位高速数字化仪
- Agilent TechnologiesPCIe板卡8位高速数字化仪
- 激光直写系统
- CTI漏电起痕试验仪
- Astel SIL8000圆晶自动进样器
- Leica DM3 XL半导体显微镜
- Leica DM8000 M半导体显微镜
- Linkam LTS420E-P电极型大面积冷热台
- EHC KCRK-07液晶合
- MIL 8000晶圆检测系统
- 美国SVT大容量阀控源
- 美国SVT线性蒸发源/线性束流源
- 美国SVT生产型热源/生产型束流源/生产型蒸发源
- 翻新MOCVD
- 粉体白度计
- 日本TEKHNE 露点仪
- 日本KANSAI 微波式物位开关 MWS2系列
- 日本KANSAI 振动式物位开关 KVK/KVA/KVS/KVF系列
- 日本KANSAI 电容式物位计 KLI/KLT/KLG系列
- 日本KANSAI 重锤连续式物位计 KSL系列
- 日本KANSAI 磁浮子液位计 KF-100系列
- 日本KANSAI 激光式物位计 LASER-RANG系列
- 日本KANSAI 微波粉体流量计 KFD-1
- 日本KANSAI 电磁感应式粉体流量计 KDS-1
- 日本KANSAI 微电流式物位开关 KEL-2
- 日本KANSAI 倾斜开关 TC-1/TC-3
- 日本KANSAI 电磁感应式粉尘监视器 VIEW370/LeakAlert/VIEW Ex800
- 日本KANSAI 透光分析式粉尘监视器 STACK602/VIEW580
- 日本KANSAI 光散射分析式粉尘监视器QAL181
- 日本KANSAI 后方散射测量方式粉尘监视器 QAL360
- 日本KANSAI 潜装式超声波流量计 AVFM5.0
- 日本KANSAI 超声波便携式流量计 PF330A/330B
- 日本KANSAI 超声波式污泥界面仪 KWS100
- 日本KANSAI 超声波式污泥浓度计 KWS200
- 日本KANSAI 氧化锆式氧浓度计 OXITEC
- 日本KAMSAI FTIR方式气体浓度计 CEMSⅡ
- 日本SEISHIN 自动粉体物性测定器AMT-2100K
- 日本SEISHIN 多功能测试仪MT-02
- 日本 FUJI Tough‑Plasma ATOM 等离子处理机 静电卡盘用
- 日本 FUJI Tough‑Plasma FFP20‑ST 强力等离子处理机 表面改性
- 涂胶显影设备
- 等离子刻蚀设备 Etcher
- 等离子增强化学气相沉积设备 PECVD
- 磁控溅射镀膜设备 PVD(Sputter)
- 晶圆键合/解键合设备
- 日本 SEM 坂本电机 SELN‑001B 有线双轴精密数字水平仪 半导体倾角
- 日本村田工业MURATA 浆液回收系统 CMP抛光液在线回收再生设备
- 高低温湿热试验箱
- 高低温试验箱
- 半导体恒温恒湿箱
- 日本 Micro-tec ESC-500 静电夹具专用丝网印刷机 半导体静电卡盘用
- 六室脉冲激光沉积系统
- 单室/双室高真空脉冲激光沉积系统
- 单室超高真空磁控溅射与脉冲激光镀膜系统
- 超高真空磁控及离子束溅射镀膜系统
- 大面积磁控溅射镀膜设备
- 纳米团簇薄膜磁控溅射系统
- 双室多靶位超高真空磁控溅射镀膜机
- 手套箱集成真空镀膜系统
- 卷绕磁控溅射镀膜系统
- 原子层沉积系统
- IBE离子束刻蚀机


























































































































































































营业执照已认证
















