欧洲先进的无掩膜激光直写系统，*小线宽可达 100nm，为MEMS， BioMEMS， Micro Optics， ASICs， Micro Fluidics， Sensors， CGHs等以及相关微纳米结构领域的科研工作者，提供强有力的手段！

技术参数：

加工线宽：*小可达 100nm；

主要特点：

多种曝光模式：

2D曝光模式：构建二维纳米结构；

3D曝光模式：可加工三维纳米结构；

压电驱动平台配合精密自动驱动平台，具有更高的水平定位分辨率；

系统自动聚焦、纠斜、对准；

多功能试样夹具；

快速样品样品更换：<1秒；

专业图形设计软件：支持导入CAD设计软件，2D和3D随意简单设计；