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泽攸科技无掩膜光刻机
国产半导体行业专用仪器
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泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合先进的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所得”,极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了**的曝光精度和重复定位能力,同时配备CCD相机逐场自动对焦系统,进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能,能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间,还便于在实验室或生产环境中部署。此外,ZML10A配备了直观易用的软件界面,大幅降低了操作门槛,即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备,ZML10A都能提供可靠的支持,是科研工作者和工业用户的理想选择。
技术特点
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源
▲ 绿光引导曝光,所见即所得
▲ CCD相机逐场图像自动对焦
▲ 高精度直线电机位移台
▲ 用户友好,易于操作的软件界面
光路远离结构图

主要指标

应用案例



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