HCCD 系列是系列是由海创自主研发的涂胶显影设备，是配合光刻机作业的重要设备主要用于光刻工艺之前的光刻胶涂布和光刻工艺后的图案显影。再前道晶圆加工和后道先进封装都有应用。

海创HCCD系列机型采用堆叠式高产能架构，占地面积小，模块化设计可按需要灵活配置优秀的温控精度和胶量控制能够对应更高的工艺要求。

应用领域

微机电系统(MEMS)

图像传感器(CIS)

金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)

先进封装(ADVANCED PACKAGE)

灵活工艺

满足2-12寸品圆的的全自动涂胶、显影工艺制程

COT、DEV、HP、CP、AD等工艺单元，灵活配置

精确温控、胶量控制，满足更高标准工艺要求

特点/优势

堆叠式结构，高产能，占地面积小

全自动化生产，可与光刻机联机

机台为模块化结构，灵活配置工艺需求

高精度温度控制

用户友好

提供完善的数据管理系统、用户分级系统

便利的用户界面设计，快速上手

7X24小时用户服务、安装服务、主动维护