参考价格
面议型号
碳材料微观结构分析 Phenom Pharos G2品牌
飞纳产地
荷兰样本
暂无探测器：
背散射探测器、二次电子探测器加速电压：
1 kV - 20 kV 连续可调电子枪：
肖特基热场发射电子枪电子光学放大：
2,000,000 X光学放大：
27 - 160 X分辨率：
优于 1.5 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技 碳材料微观结构分析 Phenom Pharos G2
国产扫描电镜
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石墨烯、碳纳米管、碳纤维等碳材料的性能往往与其微观形貌、尺寸以及结构特征密切相关。在材料研发和质量检测过程中，仅通过宏观指标难以全面判断材料的微观状态，因此需要借助高分辨扫描电镜对样品进行进一步观察。
Phenom Pharos G2 是飞纳推出的台式场发射扫描电镜，采用肖特基热场发射电子枪，面向微纳材料、高分辨形貌观察及精细结构分析等应用。电子光学放大倍数**可达 2,000,000 X，分辨率优于 1.5 nm，可用于观察碳材料表面形貌、微观结构及局部细节。
设备采用台式化设计，并提供低、中、高三种真空模式，可根据不同样品和测试条件进行选择。标准配置包括背散射探测器和二次电子探测器，同时支持选配能谱探测器，在形貌观察之外，可进一步开展局部元素分析。
扫描电镜能够将碳材料表面的微观形貌进行放大显示，可用于观察石墨烯片层、碳纳米管、碳纤维等材料的表面状态和形貌特征。
对于尺寸较小、结构较细的碳材料，需要更高的成像分辨能力。Pharos G2 分辨率优于 1.5 nm，电子光学放大倍数**可达 2,000,000 X，可用于微纳尺度结构观察。
在材料制备、改性或工艺优化过程中，可以通过扫描电镜对不同批次、不同处理条件下的样品进行形貌对比，为材料研发和工艺调整提供微观图像依据。
如果需要进一步判断样品局部区域的元素组成，可选配能谱探测器，对颗粒、异物或指定区域进行元素分析，实现形貌观察与成分分析的结合。
高分辨成像能力
采用肖特基热场发射电子枪，电子光学放大倍数** 2,000,000 X，分辨率优于 1.5 nm，适用于碳材料等微纳尺度样品的精细结构观察。
加速电压连续调节
加速电压支持 1 kV - 20 kV 连续可调，可结合不同样品特性和观察目标调整成像条件。
多种真空模式
设备提供低、中、高三种真空模式，为不同类型样品提供相应的测试条件。
多探测器配置
标配背散射探测器和二次电子探测器，可根据实际分析需求选配能谱探测器。
台式化实验室部署
采用台式设计，占用空间相对较小，适用于材料研发、科研及检测实验室。
石墨烯微观形貌观察
碳纳米管形貌及结构分析
碳纤维表面形貌观察
碳基纳米材料微观结构研究
碳材料制备工艺对比
材料改性前后形貌分析
碳材料研发与质量检测
纳米材料科研实验
除碳材料外，Phenom Pharos G2 也适用于半导体、催化剂、陶瓷、锂电材料、光伏材料等对高分辨形貌观察有要求的应用场景。
| 参数项目 | 配置 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom Pharos G2 |
| 产品全称 | Pharos 台式场发射电镜 |
| 产品类型 | 台式场发射扫描电镜 |
| 光学放大 | 27 - 160 X |
| 电子光学放大 | 2,000,000 X |
| 分辨率 | 优于 1.5 nm |
| 电子枪 | 肖特基热场发射电子枪 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 加速电压 | 1 kV - 20 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低 / 中 / 高三种模式 |
| 探测器 | 背散射探测器、二次电子探测器 |
| 可选探测器 | 能谱探测器 |
Q1：Pharos G2 可以用于石墨烯和碳纳米管观察吗？
可以。设备具备优于 1.5 nm 的分辨率和** 2,000,000 X 的电子光学放大倍数，可用于石墨烯、碳纳米管、碳纤维等碳材料的微观形貌及精细结构观察。
Q2：除了看形貌，还能分析元素吗？
可以根据需求选配能谱探测器，用于指定区域、颗粒或异物的元素组成分析。
Q3：设备适合科研实验室使用吗？
适合。Pharos G2 采用台式设计，同时具备高分辨成像能力，可用于科研、材料研发及检测实验室中的微纳结构观察。
Q4：设备价格如何确定？
具体价格与设备配置、探测器选择及实际应用需求有关。可提交样品类型和测试要求，由官方根据应用场景提供相应的选型建议。
如果您正在进行石墨烯、碳纳米管、碳纤维或其他碳基材料的微观结构研究，可通过平台询价/留言入口提交样品信息及具体测试需求，了解 Phenom Pharos G2 的配置方案、应用资料及报价，并可进一步预约试样。
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