在先进材料不断迈向纳米尺度与复杂结构的今天，如何在颗粒表面实现“原子级可控”的均匀包覆，已经成为催化、能源、电池与功能材料领域的关键技术问题。Forge Nano 所推动的流化床原子层沉积（Fluid

美国领先的原子层沉积技术与先进材料企业 Forge Nano 与全球硅电池材料制造商 Group14 正式宣布建立战略合作关系。双方将围绕高性能锂离子电池的美国本土化制造展开深度技术协同，共同推动基于

近日，全球领先的贵金属解决方案提供商贺利氏贵金属（Heraeus Precious Metals）与先进材料沉积科技企业 VSParticle（VSP）正式签署合作备忘录。双方将共同探索利用 VSPa

01.技术清洁度的新要求技术清洁度（Technical Cleanliness，TC）是汽车及高端精密制造领域的重要质量控制指标，直接影响零部件的磨损程度、使用寿命、失效风险，以及整机设备的可靠性、稳

半导体器件、晶圆、多层芯片与光电元件的微观结构观测，对表面质量、截面平整度、定位精度、无损伤提出极高要求。传统机械研磨、抛光、切割会带来划痕、应力层、非晶层、界面变形、热损伤等问题，导致 SEM 成像

引言粉末技术经过多年的发展，已经形成多样化的制备及加工技术。其中，表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段，长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同，PALD 是真正可以实现原子级/