参考价格
面议型号
薄膜材料表面缺陷分析用 Phenom XL G3品牌
产地
荷兰样本
暂无探测器：
背散射探测器加速电压：
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪：
CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时电子光学放大：
200,000 X光学放大：
3-19X分辨率：
优于 8 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技薄膜材料表面缺陷分析用 Phenom XL G3
国产扫描电镜
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薄膜材料表面缺陷分析用飞纳扫描电镜Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，专为薄膜材料表面缺陷分析设计，可有效观察划痕、颗粒、孔洞及结构特征。设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，平均成像时间约 40 秒，支持** 100 × 100 mm 样品，单次可承载 36 个样品，适合大尺寸样品及多样品批量检测场景。广泛应用于薄膜材料缺陷分析、高分子薄膜检测、包装材料观察、表面形貌分析及质量控制等领域。
| 参数项 | 规格 |
|---|
| 电子光学放大倍数 | 200,000 X |
| 光学放大倍数 | 3 - 19 X |
| 分辨率 | 优于 8 nm |
| 电子枪 | CeB6 灯丝，寿命 >3,000 h |
| 平均成像时间 | 约 40 秒 |
| **样品尺寸 | 100 × 100 mm |
| 样品承载数量 | 36 个 |
| 加速电压（基本模式） | 2 kV / 5 kV / 10 kV / 15 kV / 20 kV |
| 加速电压（高级模式） | 4.8 kV - 20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低真空 / 中真空 / 高真空 |
| 标配探测器 | 背散射探测器（BSD） |
| 可选探测器 | 二次电子探测器（SED）、能谱探测器（EDS） |
| 光学导航相机 | 彩色 |
Q1：该设备适合哪些样品？
A：适合较大尺寸样品（** 100 × 100 mm）及多样品批量检测（单次 36 个），同时满足常规材料形貌观察需求。
Q2：能否进行元素分析？
A：可以。该设备可根据需求选配能谱探测器（EDS），用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析。
Q3：如何获取报价？
A：产品价格根据设备配置、探测器选型及应用需求确定，欢迎通过平台询价入口提交需求，获取官方选型建议，并可预约试样体验。
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