参考价格
面议型号
飞纳场发射电镜Phenom Pharos G2品牌
产地
荷兰样本
暂无探测器：
背散射探测器、二次电子探测器加速电压：
1 kV - 20 kV 连续可调电子枪：
肖特基热场发射电子枪电子光学放大：
2,000,000 X光学放大：
27 - 160 X分辨率：
优于 1.5 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技飞纳场发射电镜Phenom Pharos G2
国产扫描电镜
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Phenom Pharos G2 是飞纳推出的台式场发射扫描电镜，可用于高分子薄膜微观缺陷观察，帮助分析孔洞、颗粒、断面和表面结构。
Phenom Pharos G2 采用肖特基热场发射电子枪，电子光学放大倍数可达 2,000,000 X，分辨率优于 1.5 nm，适合对高分辨形貌、精细结构和微纳尺度特征有要求的研发与检测场景。
该产品具备台式化设计、低/中/高三种真空模式、背散射探测器、二次电子探测器，并可根据需求选配能谱探测器。具体配置和价格根据样品类型、成像需求及功能配置确定，可通过平台询价/留言入口获取官方选型建议，并预约试样。
电子光学系统
| 参数 | 指标 |
|---|---|
| 电子枪 | 肖特基热场发射电子枪 |
| 光学放大倍率 | 27–160 X |
| 电子光学放大倍率 | 2,000,000 X |
| 分辨能力 | 优于 1.5 nm |
| 加速电压调节范围 | 1 kV–20 kV 连续可调 |
真空与探测
| 参数 | 指标 |
|---|
| 真空环境 | 低 / 中 / 高 三档 |
| 标准探测单元 | 背散射探测器、二次电子探测器 |
| 扩展探测单元 | 能谱探测器 |
搭载肖特基热场发射电子枪，满足高分辨 SEM 成像需求
电子光学放大倍率上限 2,000,000 X
分辨能力优于 1.5 nm，可应对微纳级结构表征
加速电压 1 kV–20 kV 无级可调，适配不同样品荷电控制需求
三档真空环境切换，兼容导电及非导电高分子材质
背散射探测器与二次电子探测器为出厂标配；能谱探测器按需增配
台式结构，科研、研发及检测类实验室常规工位即可部署
提供选型咨询服务，支持试样预约
高分子薄膜
塑料及塑料制品
包装材料
其他聚合物材质
高分子薄膜微观瑕疵识别（孔洞、颗粒等）
塑料材质断面组织观测
包装材料表面结构检视
聚合物研发阶段表征
来料及成品质量管控
Q1：该设备适用于哪些场景？A：纳米材质、半导体、碳基材料、催化材料、陶瓷、锂电材料、光伏材料及高分子薄膜等领域的高分辨形貌表征。
Q2：能否实现成分判定？A：可按需扩展能谱探测器，对微区颗粒、外来异物或特定位置的元素组成进行分析。
Q3：设备报价如何确定？A：*终价格与主机配置、探测单元选型及具体应用需求挂钩。可通过平台询价通道提交需求，获取针对性选型建议并安排试样。
如需了解高分子薄膜微观缺陷观察用 Phenom Pharos G2 在高分子薄膜微观缺陷表征方向的详细配置、应用资料或商务报价，可通过粉体网平台询价/留言入口提交样品类型与测试需求，获取官方选型建议并预约试样。
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