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晶圆清洗蚀刻机
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项目 | 参数 |
晶圆尺寸 | 6”-12” |
刻蚀材料 | Si、SiC、GaAs、GaN4等可定制 |
产能 | ＞38PCS（每次运行180s） |
工艺指标 | UPTIME>95%,MTTR< 4H , 颗粒增加值 <20ea@0.2um 8” Bare |
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