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化学气相沉积设备 基片台尺寸：Φ200mm; 电源:RF 500W; 真空腔室结构：立式上开盖结构； 真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；
化学气相沉积设备产品概述
1.适用范围：化学气相沉积设备适用于各单位实验室、高校实验室、教学等项目的科研、产品中试。
2.产品优点及特点：适用于硬涂层等膜的制备，以及等离子体的清洗。
3.主要用途:化学气相沉积设备主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介电、金属膜。
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