真空腔室尺寸：φ650×H650mm； 极限真空、抽气速率：6.0×10-5Pa； 漏率：设备升压率≤0.8Pa/h； 整机功率：约40/60kW  (视具体配置)；

多弧离子镀膜机特点/用途： 该系统为高真空新型阴极弧源 +磁控溅射+离子源及直流脉冲偏压电源辅助联合镀膜系统，该系统广泛用于精密刀具和模具或轴承等外表面内表面上沉积高性能耐磨擦、耐腐蚀陶瓷、金属功能导电薄膜等，如TiAlN、TiN、Cu、Al、ITO等； 多弧离子镀膜机功能强大，可灵活集成主流先进的硬件配置及工艺技术路线，便于开发及应用先进纳米薄膜技术；是一款理想纳米材料科学应用平台； 多弧离子镀膜机设计集成度高，开放式工艺菜单编辑，一键化操作，工艺参数存储及曲线查询，完备的保护，非常适合科研、中试及批量工业生产之需求；