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高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600品牌
北京泰科诺产地
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泰科诺高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
国产半导体行业专用仪器
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设备型号:TEMD600
镀膜方式:E 型电子枪
真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统
真空腔室尺寸:Φ600mm×H750mm
加热温度:室温~ 300℃
基片台尺寸:平板型 Φ350mm,或球罩型基片台 ( 可选 )
膜厚不均匀性:≤ ±5.0%
考夫曼离子源:可选
蒸发源:电子枪 10KW,6穴坩埚,国产/进口(可选), 配2套电阻蒸发
控制方式:PLC/PC(可选)
占地面积:L2500mm×W1600mm
总功率:≥ 17kW

大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
2. 可用于生产线前期工艺试验等;
3. 实验室制备导电薄膜、半导体膜、光学薄膜等,可同手套箱复合使用。
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做真空镀膜、磁控溅射工艺的同行,大概率都遇到过这种糟心场景:设备正常运行中,腔体突然爆出细碎电弧火花,控制柜报警跳闸、工艺被迫中断。轻则薄膜表面出现针孔、麻点、颗粒瑕疵,导致批量产品良率暴跌;重则直接
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高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600的工作原理介绍?
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