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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200

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型号

热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200

品牌

北京泰科诺

产地

北京

样本

暂无
北京泰科诺科技有限公司

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泰科诺热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200

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设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号:HF1200

真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷

真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

真空系统:高真空泵组系统

基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

衬底温度:600 ~ 1100℃

电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制:4 路气体流量控制

控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控制

占地面积:主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm

总功率:≥ 300kW

设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备

设备型号:HF1200

真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷

真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm

真空系统:高真空泵组系统

基片台尺寸:Φ500mm²×600mm² 方形基片台(旋转、升降可选)

衬底温度:600 ~ 1100℃

电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式

气路控制:4 路气体流量控制

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