参考价格
面议型号
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无泰科诺专用设备
泰科诺高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
国产专用设备
看了高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的用户又看了
留言询价
咨询高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
使用微信扫码拨号
基片台尺寸:抽屉式:150mm×120mm 可旋转、升降
膜厚不均匀性:≤ ±5.0%(120mmx120mm 范围内)
溅射靶:6英寸3只
溅射靶电源:1台RF,2台DC
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积:L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )
总功率:≥15kW 三相五线制
暂无数据!
真空腔体的核心工作原理是通过密闭空间抽除空气,形成低压真空环境,而腔体金属表面的微观特性,直接决定真空环境的稳定性。金属基材在机械加工、焊接成型后,表面会存在微观划痕、凹凸孔隙、残余应力,同时附着切削
热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition,简称 HFCVD)是一种重要的薄膜制备技术,通过高温热丝将反应气体分解成活性基团,在基底表面沉积形成薄膜
离子轰击靶材并非单一原子溅射过程,而是包含微观级联碰撞、粒子发射、表面改性、缺陷演化等一系列耦合物理现象的复杂过程。各类现象的强弱耦合关系直接决定薄膜的沉积速率、致密性、均匀性及力学性能。本文基于动量
轻轻一刮就掉膜,边缘翘边像 “起皮的墙皮”;有的表面还布满密密麻麻的小斑点、雾影,明明工艺参数都调对了,成品率却低得离谱;你可能会怪工艺没控制好、基材没处理干净,但很少有人想到 ——问题的根源,可能出
一、先搞懂:三种泵的 “工作逻辑” 大不同(用比喻秒懂)就像给容器 “抽空气”,三种泵的 “干活方式” 天差地别,咱们用生活场景类比:1. 罗茨泵:像 “齿轮搬运工”,靠啮合挤压送空气核心结构是两个相
蒸发沉积、溅射沉积、多弧离子镀、离子束沉积是物理气相沉积技术体系中最具代表性的四种核心技术。尽管它们均基于“气相沉积”的核心逻辑,即通过物理手段使靶材原子/离子脱离母体并沉积在基材表面形成薄膜,但在原
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的工作原理介绍?
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的使用方法?
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650多少钱一台?
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的说明书有吗?
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的报价含票含运费吗?
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650有现货吗?
0有办事机构吗?
0销售电话是多少?
手机版: