8英寸电感耦合等离子原子层沉积系统

衬底尺寸和类型:

    8英寸晶圆

兼容多种基片:

    光学玻璃(BK7、石英等)

    硅片(Si)蓝宝石、氧化铝、金属薄片

前驱体管路：

    可搭载常用光学材料前驱体:TMA、Mg(CP)2等6路

    SF₆、NH₃、O₂、Ar、N₂、等反应气体采用全氟化聚合物或镍合金管路，防腐蚀、防吸附设计

工艺温度：

    50-500°C(650°C加热盘可定制)

    腔体与载盘独立控温，温度均匀性优于+1°C

基片加载：

    自动升降式载台

    可选配真空机械手与双腔预热模块

沉积材料：

    AIF₃、MgF₂、CaF₂、LiF等光学增透膜、防反射层

    AIN、SiN_x等阻挡层、钝化层

薄膜折射率精确可控，表面粗糙度<0.5nm，膜厚均匀性优于 ±2%，高纯净度(杂质含量〈1%)