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太阳能电池钝化用ALD设备
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晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统

ALD for surface passivation of c-Si solar cells

应用:

1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积

2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积

3.大规模生产的应用

4.工业全自动生产设备

5.高产量:高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)

特征:

1.良好的厚度&均匀性好的Al2O3薄膜

2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积

3.具体化的ALD机械装置

4.全集成工艺模块

5.操作过程简单

6.自动式操作

技术规格:

ModelMaterialWafer Size(mm2)Thickness (nm)Throughput(wph)
LucidaTM GS200Al2O3156x1564550
LucidaTM GS800Al2O3156x15642300
LucidaTM GS1200Al2O3156x15643400
LucidaTM GS1600Al2O3156x15644500
LucidaTM GS6000Al2O3156x15646000
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