德国Raith EBPG5150 电子束光刻机

详细介绍

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品，包括多片散片以及完整的硅片。

高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换155mm的平台

*小曝光特征尺寸小于8nm

高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器

在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，**可以到1mm

GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境

多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

EBPG5150 应用

· 电子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盘谐振器

· 开口环谐振器

EBPG5150 产品详情

主要应用：

· 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构

· 高速电子束直写

· 批量生产，如化合物半导体器件

· 防伪标识

电子光学柱技术：

· EBPG

· 电子束

· 100 kV

样品台：

· 覆盖完整6英寸硅片大小

· 标配2工位自动化上料

(10工位可选)