研发实验室形貌分析用飞纳台式扫描电镜 Phenom XL G3

产品简介

材料研发往往不是一次测试就能完成。从原料筛选到配方调整，再到工艺条件改变，同一种材料可能会产生多个批次的样品。研究人员需要反复观察这些样品在微观尺度上的变化，并将形貌信息作为研发分析的参考。

Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，可用于研发实验室的材料微观形貌观察。针对不同尺寸和不同批次的研发样品，设备**可分析 100 x 100 mm 样品，并可同时容纳 36 个样品，为实验过程中的样品观察和对比提供支持。

在成像性能方面，Phenom XL G3 平均成像时间约 40 秒，采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm。对于材料表面、颗粒、局部结构及实验过程中出现的异常区域，可通过扫描电镜进一步获取微观图像。

设备支持低、中、高三种真空模式，标配背散射探测器，同时可根据研究任务选配二次电子探测器和能谱探测器。用户可结合具体材料类型和研发目标，选择相应的分析配置。

为什么研发实验室需要扫描电镜？

不同实验条件，可能对应不同的微观结构

研发过程中改变配方、温度、时间或其他工艺条件后，材料的宏观性能可能发生变化，而这种变化有时需要从微观结构中寻找原因。通过扫描电镜观察不同实验样品，可以为研发人员提供直观的形貌信息。

一个项目往往不只有一个样品

研发测试通常需要进行样品对照。例如不同批次、不同配方或不同工艺条件下的样品，都可能需要进行微观观察。Phenom XL G3 可同时容纳 36 个样品，适合研发实验室进行多样品测试和对比。

样品尺寸和类型并不总是相同

研发实验室的样品来源较多，不同项目的样品尺寸和材料特性也可能存在差异。Phenom XL G3 **支持 100 x 100 mm 样品，并支持低、中、高三种真空模式，为不同研发项目的样品观察提供一定的灵活性。

产品优势

大仓室，减少样品尺寸带来的限制

**可分析 100 x 100 mm 样品。对于尺寸较大的材料样品或需要同时放置多个样品的测试任务，大仓室设计可提供更多样品分析空间。

约 40 秒完成平均成像

平均成像时间约 40 秒，适用于研发实验室的日常材料观察。当需要对多个实验样品进行连续测试时，可帮助缩短单次获取图像的等待时间。

观察材料的微观形貌

电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可用于材料表面、颗粒、局部结构及其他微观特征的观察。

CeB6 灯丝满足日常研发使用

设备采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时，可用于实验室长期开展材料样品的扫描电镜观察。

根据研究目标选择分析方式

设备标配背散射探测器，可根据实际需求选配二次电子探测器和能谱探测器。在进行形貌观察的基础上，还可根据配置需求获取局部区域或颗粒的元素信息。

可开展哪些研发工作？

Phenom XL G3 可用于研发实验室中的材料样品观察，包括：

• 不同配方材料的形貌对比

• 不同工艺条件下的样品结构观察

• 颗粒及粉体材料形貌分析

• 材料表面微观结构观察

• 研发过程中异常样品分析

• 新材料样品的基础表征

• 多批次实验样品测试

• 工艺优化过程中的微观观察

技术参数

常见问题

研发样品类型比较多，可以使用这款设备吗？

Phenom XL G3 可用于多类材料样品的微观形貌观察。设备**支持 100 x 100 mm 样品，并提供低、中、高三种真空模式。具体是否适合某类样品，还需结合样品尺寸、材料特性和实际分析目标判断。

做材料研发时，能否对不同批次样品进行对比观察？

可以。设备可同时容纳 36 个样品，可用于多批次或不同实验条件下的样品观察，为研发过程中的形貌对比提供支持。

如果研究过程中还需要了解元素组成怎么办？

可根据需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或指定局部区域的元素分析。具体配置可结合实际研发任务确定。

如何选择合适的设备配置？

可通过平台询价或留言提交样品类型、尺寸及主要分析需求，根据实际应用场景获取相应的配置建议。

产品咨询

如研发项目涉及材料微观形貌观察，且存在多批次、多类型或较大尺寸样品的分析需求，可通过平台询价或留言提交具体测试情况，获取 Phenom XL G3 的应用资料及选型建议。