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企业yan发质控用飞纳台式扫描电镜 Phenom XL G3
企业yan发质控用飞纳台式扫描电镜 Phenom XL G3

参考价格

面议

型号

企业研发质控Phenom XL G3

品牌

产地

荷兰

样本

暂无
复纳科学仪器(上海)有限公司

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第9年

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核心参数
  • 分辨率:

    优于 8 nm
  • 探测器:

    背散射探测器
  • 加速电压:

    基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
  • 电子枪:

    CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时
  • 电子光学放大:

    200,000 X
  • 光学放大:

    3-19X
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复纳科技扫描电镜

复纳科技企业研发质控Phenom XL G3

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企业研发质控用飞纳台式扫描电镜 Phenom XL G3

产品简介

Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜,可应用于企业研发、产品质量控制及失效分析等场景,为材料微观形貌观察和问题样品分析提供扫描电镜检测支持。

在企业产品研发和生产过程中,当材料出现表面缺陷、结构异常或产品性能变化时,往往需要从微观层面对样品进行进一步观察。Phenom XL G3 可用于材料表面、断面及局部异常区域的形貌分析,帮助研发和质控人员获取样品的微观结构信息,为问题排查、工艺改进和质量评估提供参考。

设备平均成像时间约 40 秒,**可分析 100 x 100 mm 样品,并可同时容纳 36 个样品,适合企业实验室开展日常样品测试及多样品观察。采用 CeB6 灯丝,电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,可满足常规材料研发和质量检测中的微观形貌分析需求。

Phenom XL G3 支持低、中、高三种真空模式,标配背散射探测器,并可根据实际应用需求选配二次电子探测器和能谱探测器。通过不同配置,可满足材料形貌观察、缺陷区域分析及局部元素检测等需求。

产品特点

1. 服务企业研发与质量控制需求

可用于研发阶段的材料结构观察,也可应用于生产过程中异常样品、缺陷样品及失效样品的微观分析,为企业研发和质控工作提供检测支持。

2. 大仓室设计,满足不同尺寸样品测试

**支持 100 x 100 mm 样品分析,可同时容纳 36 个样品,方便企业实验室根据不同项目安排日常样品测试。

3. 快速获取微观形貌信息

平均成像时间约 40 秒,可用于研发测试和质量控制过程中的常规样品观察,提高日常检测工作的效率。

4. 兼顾放大倍率与常规材料分析需求

电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,可用于材料表面形貌、颗粒结构及局部缺陷区域观察。

5. CeB6 灯丝,适合实验室长期使用

采用 CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时,可满足企业研发实验室和质量检测部门的日常分析需求。

6. 三种真空模式,提升样品分析灵活性

支持低、中、高三种真空模式,可根据不同材料特性和检测目标选择相应的测试条件,适应多类材料样品的观察需求。

7. 可根据分析任务扩展探测能力

设备标配背散射探测器,可选配二次电子探测器和能谱探测器,在形貌观察基础上进一步满足不同项目对样品信息获取的需求。

8. 台式设计,便于企业内部实验室部署

采用台式结构,可部署于企业研发中心、质量控制实验室及材料检测部门,为研发与生产提供就近的微观分析支持。

应用领域

Phenom XL G3 可应用于以下企业研发与质量控制场景:

  • 企业研发样品微观形貌分析

  • 产品质量控制与来料检测

  • 材料表面及断面观察

  • 产品缺陷与异常区域分析

  • 失效样品微观检测

  • 工艺优化与材料研发

  • 多样品日常测试

  • 企业内部材料检测实验室

技术参数

项目参数
产品型号Phenom XL G3
产品全称XL 大仓室自动化电镜
产品类型大仓室台式扫描电镜
光学放大3 - 19 X
电子光学放大200,000 X
分辨率优于 8 nm
电子枪CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时
光学导航相机彩色
平均成像时间约 40 秒
**样品尺寸100 x 100 mm
样品承载可同时容纳 36 个样品
加速电压基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
高级模式4.8 kV - 20.5 kV 连续可调
真空模式低 / 中 / 高三种模式
探测器背散射探测器
可选探测器二次电子探测器、能谱探测器

常见问题

1. Phenom XL G3 适合企业研发部门使用吗?

适合。设备可用于企业研发过程中的材料形貌观察、样品结构分析和问题样品检测,也可服务于日常质量控制工作。

2. 除了研发样品,还能用于生产质量控制吗?

可以。对于生产过程中的异常样品、材料缺陷或需要进行微观观察的样品,Phenom XL G3 可提供形貌分析支持。具体检测方案需结合样品类型和实际检测目标确定。

3. 是否支持元素分析?

设备可根据需求选配能谱探测器,用于颗粒、异物或局部区域的元素分析,为材料研发和问题样品分析提供更多参考信息。

4. 产品价格如何确定?

设备价格根据具体配置、探测器选项、应用需求及服务方案确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求,获取相应的设备配置建议。

产品服务

如需了解 Phenom XL G3 在企业研发、材料质量控制及失效分析中的应用方案、设备配置或相关测试资料,可通过平台询价或留言提交样品类型与分析需求,获取进一步产品信息。


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