参考价格
面议型号
企业研发质控Phenom XL G3品牌
产地
荷兰样本
暂无分辨率:
优于 8 nm探测器:
背散射探测器加速电压:
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪:
CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时电子光学放大:
200,000 X光学放大:
3-19X复纳科技扫描电镜
复纳科技企业研发质控Phenom XL G3
国产扫描电镜
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Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜,可应用于企业研发、产品质量控制及失效分析等场景,为材料微观形貌观察和问题样品分析提供扫描电镜检测支持。
在企业产品研发和生产过程中,当材料出现表面缺陷、结构异常或产品性能变化时,往往需要从微观层面对样品进行进一步观察。Phenom XL G3 可用于材料表面、断面及局部异常区域的形貌分析,帮助研发和质控人员获取样品的微观结构信息,为问题排查、工艺改进和质量评估提供参考。
设备平均成像时间约 40 秒,**可分析 100 x 100 mm 样品,并可同时容纳 36 个样品,适合企业实验室开展日常样品测试及多样品观察。采用 CeB6 灯丝,电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,可满足常规材料研发和质量检测中的微观形貌分析需求。
Phenom XL G3 支持低、中、高三种真空模式,标配背散射探测器,并可根据实际应用需求选配二次电子探测器和能谱探测器。通过不同配置,可满足材料形貌观察、缺陷区域分析及局部元素检测等需求。
可用于研发阶段的材料结构观察,也可应用于生产过程中异常样品、缺陷样品及失效样品的微观分析,为企业研发和质控工作提供检测支持。
**支持 100 x 100 mm 样品分析,可同时容纳 36 个样品,方便企业实验室根据不同项目安排日常样品测试。
平均成像时间约 40 秒,可用于研发测试和质量控制过程中的常规样品观察,提高日常检测工作的效率。
电子光学放大倍数可达 200,000 X,分辨率优于 8 nm,可用于材料表面形貌、颗粒结构及局部缺陷区域观察。
采用 CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时,可满足企业研发实验室和质量检测部门的日常分析需求。
支持低、中、高三种真空模式,可根据不同材料特性和检测目标选择相应的测试条件,适应多类材料样品的观察需求。
设备标配背散射探测器,可选配二次电子探测器和能谱探测器,在形貌观察基础上进一步满足不同项目对样品信息获取的需求。
采用台式结构,可部署于企业研发中心、质量控制实验室及材料检测部门,为研发与生产提供就近的微观分析支持。
Phenom XL G3 可应用于以下企业研发与质量控制场景:
企业研发样品微观形貌分析
产品质量控制与来料检测
材料表面及断面观察
产品缺陷与异常区域分析
失效样品微观检测
工艺优化与材料研发
多样品日常测试
企业内部材料检测实验室
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom XL G3 |
| 产品全称 | XL 大仓室自动化电镜 |
| 产品类型 | 大仓室台式扫描电镜 |
| 光学放大 | 3 - 19 X |
| 电子光学放大 | 200,000 X |
| 分辨率 | 优于 8 nm |
| 电子枪 | CeB6 灯丝,使用寿命优于 3000 小时 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 平均成像时间 | 约 40 秒 |
| **样品尺寸 | 100 x 100 mm |
| 样品承载 | 可同时容纳 36 个样品 |
| 加速电压 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
| 高级模式 | 4.8 kV - 20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低 / 中 / 高三种模式 |
| 探测器 | 背散射探测器 |
| 可选探测器 | 二次电子探测器、能谱探测器 |
适合。设备可用于企业研发过程中的材料形貌观察、样品结构分析和问题样品检测,也可服务于日常质量控制工作。
可以。对于生产过程中的异常样品、材料缺陷或需要进行微观观察的样品,Phenom XL G3 可提供形貌分析支持。具体检测方案需结合样品类型和实际检测目标确定。
设备可根据需求选配能谱探测器,用于颗粒、异物或局部区域的元素分析,为材料研发和问题样品分析提供更多参考信息。
设备价格根据具体配置、探测器选项、应用需求及服务方案确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求,获取相应的设备配置建议。
如需了解 Phenom XL G3 在企业研发、材料质量控制及失效分析中的应用方案、设备配置或相关测试资料,可通过平台询价或留言提交样品类型与分析需求,获取进一步产品信息。
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