参考价格
面议型号
第三方检测实验室用Phenom XL G3品牌
飞纳产地
荷兰样本
暂无加速电压：
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪：
CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时电子光学放大：
200,000 X光学放大：
3-19X分辨率：
优于 8 nm探测器：
背散射探测器复纳科技扫描电镜
复纳科技第三方检测实验室用Phenom XL G3
国产扫描电镜
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Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，可用于第三方检测实验室的多类型样品形貌观察与分析。
Phenom XL G3 平均成像时间约 40 秒，可对** 100 x 100 mm 的样品进行分析，适合较大尺寸样品或多样品检测场景。设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，适用于日常质检、研发分析、失效分析和样品测试等应用。
该产品具备大仓室样品台、低/中/高三种真空模式、背散射探测器，并可根据需求选配二次电子探测器和能谱探测器。具体配置和价格根据型号、功能及应用需求确定，可通过平台询价/留言入口获取官方选型建议，并预约试样。
**支持 100 × 100 mm 样品分析，可同时容纳 36 个样品，适合第三方检测实验室开展多样品、多类别检测工作。
平均成像时间约 40 秒，可快速获取样品微观形貌信息，满足检测机构日常样品分析需求。
电子光学放大倍数**可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可用于金属、陶瓷、高分子、电子元器件及粉体材料等多类样品观察。
采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时，可满足检测实验室连续使用需求。
支持低真空、中真空和高真空三种模式，可根据不同样品特性选择合适的测试环境。
标配背散射探测器，可选配二次电子探测器和能谱探测器，满足样品形貌观察、异常区域分析及元素检测需求。
设备结构紧凑，可应用于第三方检测机构、高校实验室、企业研发中心及质量控制部门。
Phenom XL G3 可应用于以下场景：
第三方检测实验室样品分析
材料微观形貌观察
金属及合金材料检测
电子元器件失效分析
粉体及颗粒材料观察
高分子及复合材料分析
产品质量控制
企业研发检测
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom XL G3 |
| 产品全称 | XL 大仓室自动化电镜 |
| 产品类型 | 大仓室台式扫描电镜 |
| 光学放大 | 3 - 19 X |
| 电子光学放大 | 200,000 X |
| 分辨率 | 优于 8 nm |
| 电子枪 | CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 平均成像时间 | 约 40 秒 |
| **样品尺寸 | 100 x 100 mm |
| 样品承载 | 可同时容纳 36 个样品 |
| 加速电压 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
| 高级模式 | 4.8 kV - 20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低 / 中 / 高三种模式 |
| 探测器 | 背散射探测器 |
| 可选探测器 | 二次电子探测器、能谱探测器 |
适合。设备支持多类型材料样品分析，并具备大仓室、多样品承载和快速成像特点，可满足检测机构日常测试需求。
可用于金属、陶瓷、高分子、粉体、电子元器件及其他固体材料的微观形貌观察与分析。
支持。设备可选配能谱探测器（EDS），用于颗粒、异物、污染区域及局部位置的元素组成分析。
设备价格根据型号配置、探测器组合、应用需求及服务方案确定。用户可通过平台询价入口提交样品类型和测试需求，获取对应配置建议。
如需了解 Phenom XL G3 在第三方检测实验室中的应用方案、设备配置或测试资料，可通过平台留言提交样品信息与检测需求，获取进一步产品信息。
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