参考价格
面议型号
岩石矿物颗粒分析henom XL G3品牌
飞纳产地
荷兰样本
暂无分辨率：
优于 8 nm探测器：
背散射探测器加速电压：
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪：
CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时电子光学放大：
200,000 X光学放大：
3-19X复纳科技扫描电镜
复纳科技岩石矿物颗粒分析henom XL G3
国产扫描电镜
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Phenom XL G3 是飞纳推出的一款大仓室台式扫描电镜，面向岩石、矿物及地质材料的微观分析需求，可对矿物颗粒形态、表面纹理、结构特征以及局部异常区域进行观察。
在岩石矿物研究过程中，颗粒大小、边界形貌、表面状态以及不同矿物相之间的差异，是开展材料分析和地质研究的重要依据。Phenom XL G3 能够提供清晰的微观形貌图像，帮助用户获取样品内部及表面的细节信息。
该设备采用 CeB6 灯丝电子源，电子光学放大倍数**可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可满足矿物颗粒观察、材料研发以及实验室常规检测等应用需求。
Phenom XL G3 配备大尺寸样品仓，支持** 100 × 100 mm 样品检测，并可同时放置多个样品。设备支持低、中、高三种真空模式，搭载背散射探测器，同时可根据分析需求配置二次电子探测器和能谱探测器，实现形貌观察与元素信息分析。
采用大仓室设计，可承载** 100 × 100 mm 样品，支持*多 36 个样品同时装载，适用于岩石切片、矿物颗粒及批量样品分析。
平均成像时间约 40 秒，可快速完成样品区域观察，提高矿物筛查、实验分析及日常检测效率。
电子光学放大倍数**可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，可用于观察矿物颗粒表面细节、结构特征及微小缺陷。
设备采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时，可满足实验室长期检测需求。
支持低真空、中真空和高真空三种模式，可针对不同类型岩石、矿物及地质材料选择合适的分析条件。
标配背散射探测器，可选配二次电子探测器和能谱探测器，满足样品形貌观察、矿物区分及元素分析需求。
设备占地空间小，适合高校、科研机构、地质实验室以及企业检测部门进行日常部署。
Phenom XL G3 可应用于：
岩石矿物颗粒形貌分析
矿石及地质样品检测
矿物晶体结构观察
岩石薄片微观分析
地质材料研究
矿物颗粒尺寸及分布观察
科研实验与第三方检测
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom XL G3 |
| 产品全称 | XL 大仓室自动化电镜 |
| 产品类型 | 大仓室台式扫描电镜 |
| 光学放大 | 3 - 19 X |
| 电子光学放大 | 200,000 X |
| 分辨率 | 优于 8 nm |
| 电子枪 | CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 平均成像时间 | 约 40 秒 |
| **样品尺寸 | 100 x 100 mm |
| 样品承载 | 可同时容纳 36 个样品 |
| 加速电压 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
| 高级模式 | 4.8 kV - 20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低 / 中 / 高三种模式 |
| 探测器 | 背散射探测器 |
| 可选探测器 | 二次电子探测器、能谱探测器 |
该设备适用于岩石、矿石、矿物颗粒、地质样品以及其他固体材料的微观观察，可用于分析颗粒形貌、表面结构及局部特征。
支持。通过选配能谱探测器，可对矿物颗粒、异常区域以及局部位置进行元素检测，为矿物成分判断提供数据支持。
设备采用大仓室设计，**支持 100 x 100 mm 样品，可满足部分较大尺寸岩石及地质材料样品的观察需求。
产品价格根据设备配置、探测器组合以及具体应用需求确定。用户可通过平台询价入口提交样品类型和测试需求，获取对应配置建议。
如需了解 Phenom XL G3 在岩石矿物颗粒分析中的应用案例、设备配置或测试方案，可通过平台留言提交需求，获取进一步产品信息。
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