参考价格
面议型号
焊点缺陷观察用 Phenom XL G3品牌
飞纳产地
荷兰样本
暂无探测器：
背散射探测器加速电压：
基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV电子枪：
CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时电子光学放大：
200,000 X光学放大：
3-19X分辨率：
优于 8 nm复纳科技扫描电镜
复纳科技焊点缺陷观察用 Phenom XL G3
国产扫描电镜
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Phenom XL G3 是一款大仓室台式扫描电镜，可用于材料表面形貌观察、焊点缺陷分析、电子元器件失效分析及质量检测等应用。设备采用大尺寸样品仓设计，可对** 100 × 100 mm 的样品进行观察，同时支持多样品检测，适用于研发实验室、生产质检及第三方检测等场景。
在焊点缺陷分析中，Phenom XL G3 可用于观察焊点表面形貌、断裂位置及失效区域，为焊接质量评估和失效原因分析提供微观形貌信息。
设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数**可达 200,000×，分辨率优于 8 nm。平均成像时间约 40 秒，可满足日常样品检测及批量观察需求。
Phenom XL G3 支持低、中、高三种真空模式，可适应不同类型材料样品的观察需求。设备标配背散射电子探测器，并可根据实际应用需求选配二次电子探测器及能谱探测器，实现形貌观察与元素分析等功能。
设备**可容纳 100 × 100 mm 样品，并支持同时放置多个样品，可满足较大尺寸样品观察及批量检测需求。
平均成像时间约 40 秒，适用于日常质量检测、研发测试及多样品观察等应用场景。
采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时。电子光学放大倍数**可达 200,000×，分辨率优于 8 nm，可用于材料表面及微观结构观察。
支持低、中、高三种真空模式，可根据样品特性选择合适的测试条件，适用于多类材料样品的微观形貌分析。
设备标配背散射电子探测器，可根据应用需求选配二次电子探测器和能谱探测器，用于获取不同类型的形貌及成分信息。
设备采用台式结构设计，可用于研发实验室、企业质检部门及检测机构等场景，满足日常样品测试与分析需求。
Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜可应用于以下领域：
焊点表面形貌及缺陷观察
电子元器件失效分析
PCB 及电子产品质量控制
半导体及封装材料检测
金属、陶瓷及高分子材料形貌分析
异物、颗粒及污染物观察
第三方检测与材料研发
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 产品型号 | Phenom XL G3 |
| 产品名称 | XL 大仓室自动化电镜 |
| 产品类型 | 大仓室台式扫描电镜 |
| 光学放大倍率 | 3–19× |
| 电子光学放大倍率 | ** 200,000× |
| 分辨率 | 优于 8 nm |
| 电子枪 | CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 平均成像时间 | 约 40 秒 |
| **样品尺寸 | 100 × 100 mm |
| 样品承载能力 | *多可同时容纳 36 个样品 |
| 加速电压（基本模式） | 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
| 加速电压（高级模式） | 4.8–20.5 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低真空 / 中真空 / 高真空 |
| 标配探测器 | 背散射电子探测器 |
| 可选探测器 | 二次电子探测器、能谱探测器 |
Phenom XL G3 适合较大尺寸样品、多样品批量检测以及常规材料微观形貌观察，可应用于金属、电子元器件、PCB、封装材料及其他工程材料的分析。
设备可根据应用需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析，实现形貌与成分信息的综合观察。
可以。设备可用于观察焊点表面、断裂位置及失效区域的微观形貌，为焊接缺陷分析和失效原因判断提供参考。
设备价格根据具体配置、探测器选项及应用需求确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型及测试需求，获取相应的产品配置建议。
如需了解 Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜的产品配置、焊点缺陷分析方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求，获取进一步的产品选型建议。
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