纳米材料高分辨成像用飞纳台式场发射扫描电镜 Phenom Pharos G2

飞纳 Pharos 台式场发射电镜（型号 Phenom Pharos G2）专为纳米材料微观表征设计，可对纳米颗粒、孔结构、表面缺陷等特征进行高分辨成像。该设备采用肖特基热场发射电子枪，电子光学放大倍数达到 2,000,000 X，分辨能力优于 1.5 nm，加速电压在 1 kV 至 20 kV 范围内连续可调，并配备低、中、高三种真空模式以适配不同样品特性。探测方面，背散射探测器与二次电子探测器作为标准配置，能谱探测器则可根据分析需求选配。整机为台式设计，配备彩色光学导航相机，便于快速定位观测区域。

技术规格

产品型号：Phenom Pharos G2

产品全称：Pharos 台式场发射电镜

产品类型：台式场发射扫描电镜

光学放大：27 - 160 X

电子光学放大：2,000,000 X

分辨率：优于 1.5 nm

电子枪：肖特基热场发射电子枪

光学导航相机：彩色

加速电压：1 kV - 20 kV 连续可调

真空模式：低 / 中 / 高三种模式

探测器：背散射探测器、二次电子探测器

可选探测器：能谱探测器

功能特点

该设备电子光学放大上限 2,000,000 X，分辨能力优于 1.5 nm，满足微纳结构观察需求。加速电压 1 kV–20 kV 连续可调，三档真空模式适配不同导电性样品。背散射探测器与二次电子探测器为出厂标配，能谱探测器为选配件。台式结构，实验室常规工位即可部署。

特点

• 肖特基热场发射电子枪

• 2,000,000 X 电子光学放大

• 优于 1.5 nm 分辨率

• 1 kV–20 kV 连续可调加速电压

• 低 / 中 / 高三档真空

• 背散射 + 二次电子探测器标配

• 能谱探测器可选

• 台式结构

应用

纳米材料 / 半导体 / 碳材料 / 催化剂 / 陶瓷 / 锂电材料 / 光伏材料

问答

Q：适用场景？A：上述材料的高分辨形貌观察。

Q：元素分析？A：选配能谱探测器可实现。

Q：价格？A：依配置、探测器及应用需求确定。平台询价获取选型建议并预约试样。

咨询方式

如需了解 Phenom Pharos G2 在纳米材料高分辨成像中的配置方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价/留言入口提交样品类型与测试需求，获取官方选型建议并预约试样。