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TALD-D 双腔热型原子层沉积系统品牌
嘉兴科民产地
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TALD-D 双腔热型原子层沉积系统
国产半导体行业专用仪器
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ALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统，已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评。
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