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PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉积设备
PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉积设备

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PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉积设备

品牌

盛吉盛

产地

浙江

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盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司

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半导体行业专用仪器

PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉积设备

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Auroflux 设备适用于Si/SiC/GaN基功率器件6/8寸晶圆金属互联层薄膜淀积工艺。该机台为多腔室前后双平台结构实现晶圆安全准确传输,支持多工艺模块,能够进行全自动工艺处理. 其中主要工艺为晶圆表面预清洗和金属薄膜沉积.广泛应用于集成电路,化合物半导体,功率半导体以及MEMS等领域。当前主要薄膜沉积工艺如下:

AlCu/AlSiCu/Ti/TiN/Hot Al

Ni/Cr/Au/Ag/Ta/Cu/AlN/ALSCN


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