TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具，设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。TWINSCAN 平台的双晶圆台技术使一个晶圆的曝光和下一个晶圆的对齐和映射能够并行进行，从而几乎消除了开销时间并允许对晶圆进行连续图案化。

此外，高强度 5.5 kW Hg 灯和快速台通过*小化每个场的曝光扫描时间和场之间的步进时间来确保**生产力。液位传感器与 TWINSCAN 调平方法相结合，几乎消除了内部芯片和边缘芯片之间的差异，并确保整个 300 毫米晶圆的高良率。高吞吐量和产量与快速的标线交换时间和批量流式传输相结合，可提供*低的运营成本。

该工具出色的叠加和成像功能允许将非关键 KrF 层转换为 i-line，从而显着节省成本。