产品型号

CY-MSH150-I-RF-Q

控制系统

显示模式

7英寸触控屏

磁控溅射

靶材尺寸

2英寸

靶枪类型

标准磁场

适合靶材

非磁性金属靶材

溅射类型

直流溅射

溅射真空

0.5Pa

溅射速率

以铜为例：7nm/min

膜层厚度

≦1微米

膜均匀性

±3%

样品粒度

zui佳尺寸范围：

样品总量

≦500g

烘烤系统

烘烤温度

≦500℃任意可设置

升温速率

≦50℃/S任意可设置

控温精度

±1℃

控温模式

可编程，程序控温

旋转升降

旋转速度

0-100RPM任意可设置

升降角度

0-60°任意可设置

等离子体

射频功率

150W(另有：300W,500W,600W,1000W,1500W多种规格可选购）

功能效用

粉体包覆前，可先对粉体进行表面刻蚀，改性，增强包覆层附着力。

供气系统

气体种类

可通：氩气、氮气、氧气等多种气体

气体控制

采用质量流量控制器对气体进行流量控制、气体计量。

真空系统

前级泵

通常为双极旋片泵，客户可根据需要选购其它类型前级泵。

分子泵

通常为国产分子泵，客户可根据需要选购其它类型分子泵。

真空计

复合真空计，量程为：10-5Pa～105Pa

水冷机组

zui大流量10L-16L，zui大扬程10-25M

供电电源

AC220V/50Hz

设备尺寸

1800*620*1050

包装尺寸

1900*720*1150

包装重量

200kg

随机配件

1、说明书1本

2、随机配件1套

3、配件清单1份