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RIE-400品牌
百举捷产地
沈阳样本
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RIE-400
国产半导体行业专用仪器
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产品概述
反应离子刻蚀（RIE）是一种操作简单、经济实惠的通用等离子体刻蚀解决方案；
系统采用射频平板电容放电方式，充满反应腔室的气体分子，在射频电场作用下被电离而产生等离子体；等离子体中的活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应，同时在垂直于样片表面的射频自偏压作用下，实现了垂直于样片表面向下的各向异性刻蚀。
产品优势：
1、刻蚀均匀性高，4英寸样品可达到±4%以内；
2、具有手动和自动两种功能；
3、具有远程控制功能；
4、售后服务好，保证客户高效使用设备。
技术参数
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