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光刻机 RPA-600品牌
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光刻机 RPA-600
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关键性能参数 | 公司产品 （RPA-600） |
分辨率 | 1.5μm |
数值孔径 | 0.158 |
曝光波长 | i线 （365nm） ,h线 （405nm） ,g线 （436nm） |
掩模版尺寸 | 5/6/7吋 |
wafer尺寸 | 4/5/6吋 |
产率 （Throughput） | 100WPH |
对准精度 | 3σ ≦ 0.6 μm |
焦深 （DOF） | 6-8μm |
光强均匀性 | <3% |
占地面积 | <4m2 |
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