参考价格
面议型号
全自动接近式掩模光刻机品牌
中特微产地
江苏样本
暂无光学仪器及设备
全自动接近式掩模光刻机
国产光学仪器及设备
看了全自动接近式掩模光刻机的用户又看了
留言询价
咨询全自动接近式掩模光刻机
使用微信扫码拨号
主要技术参数
特征 | 参数 | 参数 | 参数 |
型号 | AT-MA6200 | AT-MA8200 | AT-MAC200 |
曝光均匀性 | ≥98% | ≥97% | ≥97% |
光源 | UVLED (350-450nm) | UVLED (350-450nm) | UVLED (350-450nm) |
曝光能量密度 | 10-100mW/cm2 | 10-100mW/cm2 | 10-100mW/cm2 |
分辨率 | 3μm(接近式) 1μm(接触式) | 3μm(接近式) 1μm(接触式) | 3μm(接近式) 1.5μm(接触式) |
正面套刻精度 | ±0.5μm | ±1μm | ±1μm |
背面套刻精度 | ±1μm | ±1.5μm | ±2μm |
暂无数据!
全自动接近式掩模光刻机的工作原理介绍?
全自动接近式掩模光刻机的使用方法?
全自动接近式掩模光刻机多少钱一台?
全自动接近式掩模光刻机的说明书有吗?
全自动接近式掩模光刻机的报价含票含运费吗?
全自动接近式掩模光刻机有现货吗?
波莫纳有办事机构吗?
波莫纳销售电话是多少?
手机版: