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半自动双面套刻光刻机SAT-MA是高精度双面套刻接触接近式掩模曝光机，面向12英寸及以下的中小基底光刻领域，满足先进封装、化合物半导体、MEMS等领域双面套刻对位光刻工艺需求。
主要技术参数
特征 | 参数 | 参数 | 参数 |
型号 | SAT-MA6200 | SAT-MA8200 | SAT-MAC200 |
曝光均匀性 | ≥98% | ≥97% | ≥97% |
光源 | UVLED （350-450nm） | UVLED （350-450nm） | UVLED （350-450nm） |
曝光能量密度 | 5-50mW/cm2 | 5-50mW/cm2 | 5-50mW/cm2 |
分辨率 | 0.8μm | 1μm | 2μm |
正面套刻精度 | ±0.5μm | ±0.5μm | ±1μm |
背面套刻精度 | ±1.5μm | ±1.5μm | ±2μm |
掩膜版尺寸 | 3/5/7英寸 | 5/7/9英寸 | 7/9/14英寸 |
晶元尺寸 | 1/2/4/6英寸 | 4/6/8英寸 | 6/8/12英寸 |
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