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面议型号
CAP-H1品牌
产地
江苏样本
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CAP-H1
国产半导体行业专用仪器
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名称 | CMP 化学机械抛光机 |
型号 | CAP-H1 |
作业模式 | 干进湿出 |
适用工艺 | SiC 衬底抛光 |
对应产品 | 4~8inch |
CMP table | 1 pcs |
Contour head | 分区压力控制 |
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