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Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备品牌
中微公司产地
上海样本
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Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
国产半导体行业专用仪器
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产品特点
双反应台腔体设计
低电容耦合3D线圈设计
高抽速大容量涡轮泵
双通道进气
精密的腔体温控和RF窗口温控系统
先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盘
13兆赫或400千赫脉冲偏压系统
可选的集成除胶反应腔
离子浓度和离子能量独立可控
高排气量和更宽的工艺窗口
优秀的刻蚀均匀性
优异的高深宽比刻蚀性能
高生产效率，低生产成本（CoO）
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