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上海研倍新材料 专业生产纳米粉末 氧化铈抛光液 CeO2 纳米材料
1、产品信息
货号 | 纯度 | 规格 | 形貌 | 备注 |
RDB-PGY-CeO2 | 30% | 20-30nm | 不规则 | 水性,阴离子 |
2、产品规格
1、样品测试包装客户指定(<1kg/袋装)
2、样品产品包装(1kg/袋装)
3、常规产品包装(1kg/2kg/5kg/10kg)
备注:内:充惰性气体 外:铝箔袋真空。可根据客户要求指定包装。
3、产品概述
产品通过“选用净化原料+生产纯化工艺+品控智能控制”制备生成,产品具有技术含量高、晶相纯、磁性异物少、含水量低、化学性能稳定的特点。
4、产品用途
半导体制造:
硅片抛光:这是氧化铈抛光液*主要的应用领域。在集成电路制造过程中,需要对硅片进行平坦化处理,以保证后续工艺的顺利进行。氧化铈抛光液可以有效去除硅片表面的微观缺陷和粗糙度,获得原子级平整的表面。
金属层抛光:在多层金属互连结构中,氧化铈抛光液也可以用于抛光铜、铝等金属层,以保证金属层的平整度和线宽精度。
介质层抛光:氧化铈抛光液可以用于抛光各种介质层,例如二氧化硅、氮化硅等,以保证器件的性能和可靠性。
光学元件抛光:
玻璃抛光:氧化铈抛光液可以用于抛光各种光学玻璃,例如熔融石英、硼硅酸盐玻璃等,以提高光学元件的表面质量,减少光散射和提高光学透过率。
晶体抛光:氧化铈抛光液也可以用于抛光各种光学晶体,例如蓝宝石、YAG等,以提高其表面质量和光学性能。
精密制造:
精密陶瓷抛光:氧化铈抛光液可以用于抛光精密陶瓷部件,以提高其表面质量和尺寸精度。
金属部件抛光:除了半导体制造中的金属层抛光外,氧化铈抛光液也可以用于抛光其他金属部件,以提高其表面光洁度和耐腐蚀性。
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