产地：美国，韩国；

型号：PS-100， EURA-100;

等离子去胶机主要用于光刻胶的剥离或灰化，也可用于：

1.有机及无机残留物的去除

2. 去除残胶以及等离子刻蚀的应用

3.清洗微电子元件、电路板上的钻孔或铜线框架

4.提高黏附性，消除键合问题

5.塑料的表面改性：O2处理以改进涂覆性能

6.产生亲水或疏水表面等

主要配置：

1.载片(Wafers)：直径不大于100 mm(或200mm)的各种基片

2.工艺气体(Gas lines)：O2， N2

3.射频源(Source)：50 ～ 500W(13.56 MHz)连续可调，全自动匹配

4.气体流量(Gas flow)：MFC精确调控

5.产能：每次20片，每个循环约5分钟（辉光1分钟）

6.可升级到反应离子蚀刻(RIE)功能

参考用户：

广东工业大学等；