参考价格
面议型号
多功能磁控离子溅射复合镀膜机TSU650品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了多功能磁控离子溅射复合镀膜机TSU650的用户又看了
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备
设备型号:TSU650
真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口
真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm
工件架尺寸:Φ490mm,4-6 工位公 / 自转工件架
工件架烘烤温度:室温~ 500±5℃,可调可控(PID 控温)
工件架运动方式:公转 0-5RPM 可调
辅助离子源:偏压、线性离子源辅助(可选)
阴极:矩形磁控靶、柱状靶、平面弧源、磁过滤弧源(可选) 国产或进口靶、或电源可选
控制方式:PLC 控制 / 工控机全自动控制可选
占地面积:主机 L2800mm×W1200mm×H1950mm
总功率:≥ 60kW
选购件:基片台加热系统、循环水机、膜厚控制系统等
暂无数据!
电子束蒸发(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种形式,其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击,当电子束撞击目标材料时,它的能量转化为热能,使目标材料达到蒸发的状态
真空镀膜技术应用行业近年来发展迅速,在各个行业都有广泛的应用。真空镀膜技术用于表面改性和保护,以及提高产品的性能。该行业在设备、材料和工艺方面取得了重大进步,这导致了新涂层技术和应用的发展。在可再生能
本文详细探讨了磁控溅射过程中靶中毒这一关键问题。深入分析了靶中毒的现象、机理及对溅射过程和薄膜质量的严重影响。通过对反应气体、溅射功率、靶材与基底材料等多种因素的综合研究,揭示了靶中毒的成因。靶面金属
蒸镀技术作为一种重要的薄膜制备方法,在电子、光学、太阳能等众多领域得到了广泛应用。选择合适的蒸镀材料和蒸发装置是制备高质量薄膜的关键,直接影响到薄膜的性能、生产成本以及生产效率。本文深入探讨常见蒸镀材
北京泰科诺科技23年真空行业经验,独立研发的热丝法制备金刚石膜方法填补了国内行业空白,产品获得多项国家专利和认证。广泛适用于各大高校、科研院所和生产企业实现教学、研发和中试之目的。目前已初步实现产业化