参考价格
面议型号
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了高真空磁控溅射镀膜设备JCP650的用户又看了
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
基片台尺寸:抽屉式:150mm×120mm 可旋转、升降
膜厚不均匀性:≤ ±5.0%(120mmx120mm 范围内)
溅射靶:6英寸3只
溅射靶电源:1台RF,2台DC
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积:L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )
总功率:≥15kW 三相五线制
暂无数据!
电子束蒸发(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种形式,其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击,当电子束撞击目标材料时,它的能量转化为热能,使目标材料达到蒸发的状态
真空镀膜技术应用行业近年来发展迅速,在各个行业都有广泛的应用。真空镀膜技术用于表面改性和保护,以及提高产品的性能。该行业在设备、材料和工艺方面取得了重大进步,这导致了新涂层技术和应用的发展。在可再生能
本文详细探讨了磁控溅射过程中靶中毒这一关键问题。深入分析了靶中毒的现象、机理及对溅射过程和薄膜质量的严重影响。通过对反应气体、溅射功率、靶材与基底材料等多种因素的综合研究,揭示了靶中毒的成因。靶面金属
蒸镀技术作为一种重要的薄膜制备方法,在电子、光学、太阳能等众多领域得到了广泛应用。选择合适的蒸镀材料和蒸发装置是制备高质量薄膜的关键,直接影响到薄膜的性能、生产成本以及生产效率。本文深入探讨常见蒸镀材
北京泰科诺科技23年真空行业经验,独立研发的热丝法制备金刚石膜方法填补了国内行业空白,产品获得多项国家专利和认证。广泛适用于各大高校、科研院所和生产企业实现教学、研发和中试之目的。目前已初步实现产业化