首页 > 无机材料 > 氧化铝粉 >
TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA
TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA

参考价格

面议

型号

TM-DA

品牌

TAIMEI大明化学

产地

日本

样本

暂无
玉崎科学仪器(深圳)有限公司

金牌会员

|

第1年

|

代理商

工商已核实

留言询价
400-810-0069转5388
使用微信扫码拨号
中国粉体网认证电话,请放心拨打
核心参数
  • 纯度:

    ≥ 99.99%
  • 目数:

    500目
标签:

tamasakisci氧化铝粉

tamasakisciTM-DA

国产氧化铝粉

同类推荐

看了TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA的用户又看了

产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

咨询TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA

使用微信扫码拨号

中国粉体网认证电话,请放心拨打
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

TAIMEI(大明化学)TM-DA是一款高纯度、高透光性的低温烧结氧化铝粉,主要面向透明陶瓷和光学器件等高端应用。


? 详细产品参数

参数项目 TM-DA 典型值 备注

相态 (Phase) α-Al₂O₃ 稳定的α相氧化铝

纯度 (Al₂O₃) ≥ 99.99% 超高纯度,是TM-D系列中纯度更高的型号之一

BET比表面积 13.5 m²/g 也有资料显示为14 m²/g

一次粒子径 0.10 μm 微细且均匀的一次粒子

平均粒子径 0.22 μm 通过沉降法(Sedigraph)测得

松装密度 0.8 g/cm³

振实密度 0.9 g/cm³ 也有资料显示为 1.1 g/cm³

成形密度 2.2 g/cm³ 在约98 MPa压力下单轴压制

烧结密度 3.95 g/cm³ 可达理论密度的98%以上

烧结温度 1250℃ - 1350℃ 在1300℃以下即可实现致密化

关于杂质含量:资料显示TM-DA的典型杂质含量极低,例如:Si 10ppm、Fe 8ppm、Na 3ppm、K 1ppm、Ca 3ppm、Mg 2ppm。放射性元素U < 4ppb,Th < 5ppb。


✨ 核心特性详解

高纯度与高透光性:TM-DA是TM-D系列中纯度更高的型号之一。通过HIP(热等静压)烧结等工艺,可以制成透明陶瓷,适用于LED基板、光学窗口等对透光度有严苛要求的领域。


优异的低温烧结性能:作为TM-D系列的一员,TM-DA可在1250℃至1300℃的低温下实现致密化烧结,烧结温度比普通氧化铝低200℃以上。这带来了节能降本、缩短生产周期、抑制晶粒异常生长等显著优势。


高成型性与分散性:TM-D系列粉体由一次粒子形成的微细单粒子构成,分散性良好,无严重团聚。这有助于获得均匀的烧结体微观结构,确保陶瓷制品的性能稳定。


? 同系列产品对比

为方便您对比,以下是TM-D系列主要型号的关键参数:


型号 主要特点 纯度 BET (m²/g) 一次粒径 (μm) 松装密度 (g/cm³) 振实密度 (g/cm³) 成形密度 (g/cm³) 烧结密度 (g/cm³)

TM-DA 高透光性 更高 13.5 0.1 0.8 0.9 2.2 3.95

TM-DAR 超高纯度 更高 14.5 0.1 0.9 1.0 2.3 3.96

TM-D 通用型 13.5 0.1 0.8 0.9 2.2 3.95

TM-DR 高成形性 14.5 0.1 0.9 1.0 2.3 3.96

TM-5D 粗颗粒 9.0 0.2 0.8 0.8 2.3 3.93

请注意:表格中的“更高”是指TM-DA和TM-DAR的纯度等级要高于TM-D和TM-DR。


总体而言,TM-DA是一款为高性能光学与精密陶瓷应用量身定制的高纯氧化铝粉体。

创新点

TAIMEI(大明化学)TM-DA是一款高纯度、高透光性的低温烧结氧化铝粉,主要面向透明陶瓷和光学器件等高端应用。

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
公司动态
百年NIKKATO的梯度化棋局:HD-5.0如何成为通用耐磨领域的“效率锚点”

在全球制造业向高精度、高纯度、高效率与绿色低碳方向加速转型的今天,研磨介质——这个看似基础的材料环节——正成为决定产业升级成败的关键变量。据市场研究机构数据显示,2024年全球氧化铝陶瓷球市场估值已达

日陶高纯氧化锆球深耕半导体市场,以精密研磨技术助力芯片制造升级

在全球半导体产业持续向更高集成度、更小线宽演进的背景下,精密研磨与抛光技术对芯片制造良率和性能的影响日益凸显。作为高性能陶瓷研磨介质的百年企业,日本日陶(NIKKATO)的高纯度氧化锆球凭借其卓越的材

日陶高纯度氧化铝球:以极致纯净赋能半导体精密制造

在半导体制造业向更小制程、更高集成度迈进的进程中,材料纯度的控制已从“重要因素”升级为“决定生死的关键指标”。研磨介质作为半导体材料制备中不可或缺的工艺耗材,其纯度水平直接关系到芯片性能与良率。日本日

技术文章
高纯氧化铝的应用版图:从锂电池安全屏障到半导体精密抛光的材料逻辑

氧化铝是地球上最常见的陶瓷材料之一,但“常见”与“可用”之间,隔着一条纯度构成的鸿沟。冶金级氧化铝的纯度约为99.5%,而高纯氧化铝(HPA)的纯度门槛设在99.99%(4N)以上,5N(99.999

从“搅拌棒逻辑”到“离心场逻辑”:SK-300SⅡ如何重塑实验室混合范式

实验室里最不起眼的动作,或许是“搅一搅”。但恰恰是这个动作,长期困在一种隐性的路径依赖中:用一根桨叶伸进容器,以机械力驱动流体运动。从磁力搅拌子到顶置式搅拌桨,从锚式到涡轮式,本质上都是在同一逻辑框架

住友化学AKP-15高纯氧化铝粉:精密级α-Al₂O₃的技术解码与应用突破

引言:被“0.60μm”定义的材料精度在半导体、光电与先进陶瓷产业向更高精度、更高可靠性迈进的今天,原材料的选择已从“纯度优先”演变为“纯度与粒径协同精准控制”的双轨逻辑。日本住友化学(Sumitom

用户评论
发评论
暂无评论!
问商家
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA的工作原理介绍?
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA的使用方法?
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA多少钱一台?
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA的说明书有吗?
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA的报价含票含运费吗?
  • TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA有现货吗?
  • 0有办事机构吗?
  • 0销售电话是多少?
TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA信息由玉崎科学仪器(深圳)有限公司为您提供,如您想了解更多关于TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DA报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
同品牌产品
耐磨氧化铝陶瓷
关注度 1448
氧化铝球
关注度 1118
壶磨机
关注度 1281
免费
咨询
手机站
二维码