参考价格
面议型号
HD-10.0品牌
产地
日本样本
暂无莫氏硬度:
1100粒度/直径(μm):
10000μm密度:
3.6含量:
93%材质:
氧化铝形状:
球tamasakisci氧化铝球
tamasakisciHD-10.0
国产氧化铝球
看了代理进口NIKKATO日陶氧化铝球的用户又看了
留言询价
咨询代理进口NIKKATO日陶氧化铝球
使用微信扫码拨号
HD-10.0采用93%的高纯度氧化铝(Al₂O₃),辅以约5%的二氧化硅(SiO₂)作为烧结助剂,通过精密成型和高温烧结技术制成。这种工艺保证了其微观结构均匀致密,这是其所有优异性能的基础。凭借93%的纯度,它被归为NIKKATO氧化铝球产品线中的“通用级”或“基础款”,主打高性价比,适配广谱的通用研磨场景。
相较于更小尺寸(如HD-1.0)或不明确型号的HD系列球,HD-10.0在性能上承袭并放大了HD系列“高硬度、耐磨性优异”的特点。其典型的性能参数如下:
| 关键参数 | 典型值 |
|---|---|
| 主要成分 | Al₂O₃ 93% + SiO₂ 5% |
| 密度 | 3.6 g/cm³ |
| 硬度 (HV10) | 1100 HV10 |
| 断裂韧性 | 3.7 MPa√m |
| 磨耗率 | 约 90 ppm/h |
与更小尺寸的HD系列球相比,HD-10.0因直径更大,具备更强的“抗冲击”和“长寿命”特点。这使得它非常适合处理大块或高硬度的物料。
与所有研磨球一样,HD-10.0在工作时,通过冲击、碾压、剪切这三种物理方式,将机械动能传递给物料。但其显著的直径优势,决定了研磨机理和主攻方向上的差异:
低转速/大球径设备:冲击力是主要研磨作用,如球磨机、罐磨机。
高转速设备:冲击、剪切和摩擦三者共同作用,如行星磨、搅拌磨。
直径效应是HD-10.0工作原理中的关键一环。相比小尺寸研磨球,它在研磨过程中的单次碰撞能量会大很多,能够产生强烈的冲击,对硬度高的大颗粒物料进行高效粉碎。然而,代价是单位体积内的球数较少,与物料的接触频率和接触面积降低,因而不太适合需要精细研磨到微米甚至纳米级的物料。这决定了它更适合作为研磨流程中的 “开路先锋” ,承担粗磨、中磨和强力分散的角色。
HD材质具有优异的化学稳定性,耐酸碱(除氢氟酸和热浓硫酸外),能够在多种化学环境中保持稳定。这一特性在大球上依然保留,为其在化工领域的应用奠定了基础。
HD-10.0的工作原理决定了其典型的应用场景:
物料类型:高硬度的脆性物料,如陶瓷原料、釉料、刚玉、碳化硅,以及矿石、水泥、耐火材料等。
设备类型:大容积球磨机、搅拌磨、振动磨等。
工艺流程:粉碎流程中的 “初段粉碎”或“中段研磨” ,与后续使用小球的精细研磨形成有效接力。
HD系列中其他型号的工作机理类似,HD-10.0的核心工作原理也遵循“微观材料学决定物理性能,再通过物理方式完成研磨”的路线,但其性能指标和应用定位已达到更高的层级。
在全球制造业向高精度、高纯度、高效率与绿色低碳方向加速转型的今天,研磨介质——这个看似基础的材料环节——正成为决定产业升级成败的关键变量。据市场研究机构数据显示,2024年全球氧化铝陶瓷球市场估值已达
在全球半导体产业持续向更高集成度、更小线宽演进的背景下,精密研磨与抛光技术对芯片制造良率和性能的影响日益凸显。作为高性能陶瓷研磨介质的百年企业,日本日陶(NIKKATO)的高纯度氧化锆球凭借其卓越的材
在半导体制造业向更小制程、更高集成度迈进的进程中,材料纯度的控制已从“重要因素”升级为“决定生死的关键指标”。研磨介质作为半导体材料制备中不可或缺的工艺耗材,其纯度水平直接关系到芯片性能与良率。日本日
在研磨介质的世界里,0.3mm和1.0mm之间藏着一条少有人走的路。0.3mm以下,球径足够小,接触点足够密,但单颗冲击力有限——适合分散,不适合破碎。1.0mm以上,冲击力充足,但接触密度骤降——适
在高端粉体加工领域,随着电子材料、新能源、精细化工等行业对产品粒径、纯度与均匀性要求的持续提升,研磨介质的性能已成为制约制程效率与成品品质的核心因素。日本 NIKKATO(日陶工业株式会社)作为全球精
一、产品概述NIKKATO(日陶工业株式会社)是全球领先的精密陶瓷研磨介质制造商,其YTZ®系列氧化钇稳定氧化锆球长期被高端制造业视为纳米级研磨工序的“基准介质”。YTZ-0.7是该系列中的微米级精密
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球的工作原理介绍?
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球的使用方法?
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球多少钱一台?
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球的说明书有吗?
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球的报价含票含运费吗?
代理进口NIKKATO日陶氧化铝球有现货吗?
波莫纳有办事机构吗?
波莫纳销售电话是多少?
手机版: