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铬靶
铬靶

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Ф100*3.175mm

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北京

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北京中金研新材料科技有限公司

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    Ф100*3.175mm
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纳米材料

Ф100*3.175mm

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铬(Chromium, Cr)是一种高硬度、耐腐蚀、耐高温的金属材料,在薄膜沉积领域中具有重要地位。铬靶材常用于电极层、阻挡层、粘附层及光学薄膜的制备,具有良好的附着性和膜层稳定性,是半导体工艺、光学镀膜与功能涂层中的关键基础材料。

技术特点

高纯度(3N5–4N),薄膜电学、附着性与耐腐蚀性更稳定;


硬度高、抗脆裂性能好;


膜层附着力强,是常用的粘附层材料;


工艺稳定、颗粒脱落率低、膜层均匀致密;


支持多种尺寸、厚度与背板结构定制。


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