参考价格
面议型号
BB650品牌
Ashizawa芦泽精工产地
日本样本
暂无适用温度（℃）：
200全容积（m³）：
2.3能耗：
约100,000毫帕·秒处理量：
20–200kg物料类型：
液体（粘稠液体）工作原理：
立式tamasakisci乳化机
tamasakisciBB650
国产乳化机
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Bubble Buster BB 是一款连续真空脱气机，由 Ashizawa 和 NETZSCH Mastermix 合作开发。它适用于各种粘度的产品，从低粘度到高粘度，并具有高效的泡沫去除和脱气效果。
由于真空脱气是在薄膜状态下进行的，因此可以获得较高的脱气效果。
虽然是一个连续系统，但它不需要单独的液体输送泵或排放泵。
由于其结构简单，操作、清洁和维护都非常容易。
| 模型 | BB200、BB400、BB650 |
|---|---|
| 电动机 | 2.2千瓦、11千瓦、18.5千瓦 |
| 处理量 | 20–200 公斤/小时（取决于粘度） ** 2000 公斤/小时（取决于粘度） ** 4000 公斤/小时（取决于粘度） |
| 粘度 | 约100,000毫帕·秒 |
我司代理及优势品牌一览明细：
代理品牌：CCS晰写速 SEN日森、EYE岩崎、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克
SONIC索尼克、SANKO三高、NEWKON新光、HAYASHI 林时计、NPM日脉
NS日本科学、DRY-CABI东利繁、TOKISANGYO东机
SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山、Kakuhunt写真化学、NIPPON GEAR日本齿轮
NIDEC尼得科、MIYACHI天田、TORAY 东丽
优势品牌：USHIO牛尾、TOPCON拓普康、AITEC艾泰克、FUNATECH船越龙、ORC欧阿西
SAGADEN嵯峨、SAKAZUME坂诘、TORAY东丽、DNP大日本科研、TOKYO DENSHOKU电色、KKIMAC
S-VANS斯万斯、ORIHARA折原、LUCEO鲁机欧、HIKARIYA光屋、YAMADA山田光学
AND艾安得、T&D天特、JIKCO吉高、DKK-TOA东亚电波、OKANO冈野、ANRITSU安立计器
IMV艾目微、MITUTOYO三丰、KYOWA共和、ONOSOKKI小野、SANEI三荣、HEIDON新东科学KURABO仓纺、SHOWA昭和、THINKY新基、AIKOH爱光、SEM坂本电机
SURUGA骏河、ACCRETECH東京精密、SANSYO三商、ITOH伊藤、NAGARISHI成茂、
RKC理化、MACOME码控美、EIWA荣和、EXCEL艾库斯、YODOGAWA淀川等
优势产品：日本紫外线照度计、紫外线装置灯管、LED视觉光源、表面检查灯、手持检测灯
变色灯箱、色差仪、卤素光源装置、氧气浓度计、焊接机、应力表面检查仪、LED光源机、电子天平、粘度计、膜厚计、恒流泵、采样泵、PH计、水分计、地震测试仪、脱泡搅拌机、压力传感器、气体检测仪、接近开关、拉拔机、异音检测仪、应变测试仪、拉针仪、水平测试仪，离心机等
Bubble Buster BB 是一款连续真空脱气机，由 Ashizawa 和 NETZSCH Mastermix 合作开发。它适用于各种粘度的产品，从低粘度到高粘度，并具有高效的泡沫去除和脱气效果。
在全球制造业向高精度、高纯度、高效率与绿色低碳方向加速转型的今天，研磨介质——这个看似基础的材料环节——正成为决定产业升级成败的关键变量。据市场研究机构数据显示，2024年全球氧化铝陶瓷球市场估值已达
在全球半导体产业持续向更高集成度、更小线宽演进的背景下，精密研磨与抛光技术对芯片制造良率和性能的影响日益凸显。作为高性能陶瓷研磨介质的百年企业，日本日陶（NIKKATO）的高纯度氧化锆球凭借其卓越的材
在半导体制造业向更小制程、更高集成度迈进的进程中，材料纯度的控制已从“重要因素”升级为“决定生死的关键指标”。研磨介质作为半导体材料制备中不可或缺的工艺耗材，其纯度水平直接关系到芯片性能与良率。日本日
引言：被“0.60μm”定义的材料精度在半导体、光电与先进陶瓷产业向更高精度、更高可靠性迈进的今天，原材料的选择已从“纯度优先”演变为“纯度与粒径协同精准控制”的双轨逻辑。日本住友化学（Sumitom
在锂电池正极材料、先进陶瓷粉体与高端磁性材料的制备流程中，从微米级粗粉到亚微米乃至纳米级浆料的跨越，往往需要经历一个清晰的“粗磨—中磨—精磨”三级工艺链。在这一链条的前端——粗磨与中磨阶段，研磨介质面
在电子陶瓷、新能源材料及精细化工等高端制造领域，物料的超细粉碎与纳米级分散直接决定着最终产品的性能与品质。日本东丽（TORAY）公司推出的TORAYCERAM™系列AGB-K-0.3-C01氧化锆研磨
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