参考价格
面议型号
SSA-999S品牌
NIKKATO 日陶产地
日本样本
暂无莫氏硬度：
1800粒度/直径（μm）：
1000μm密度：
3.9含量：
99.9%材质：
氧化铝形状：
球tamasakisci氧化铝球
tamasakisciSSA-999S
国产氧化铝球
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在MLCC（多层陶瓷电容器）、纳米硅负极材料、CMP抛光浆料等尖端电子材料的制备过程中，研磨介质的纯度、硬度与尺寸精度直接决定着产品的*终性能。日本NIKKATO（日陶）公司SSA-999S氧化铝球作为高纯高性能级（99.9%）的代表产品，凭借其超高纯度、**硬度与微米级球径，成为精密电子材料纳米级分散与研磨的标杆性选择。
SSA-999S隶属于NIKKATO氧化铝球的高纯高性能级（High Purity & High Performance Grade），与同属99.9%体系的SSA-999W形成差异化定位：
| 型号 | 纯度 | 定位 | 核心特点 |
|---|---|---|---|
| SSA-995 | 99.5% | 高纯度级 | 性价比高，适用于中等污染敏感度场景 |
| SSA-999W | 99.9% | 高纯高性能级 | 宽尺寸范围（1-25mm），适用于常规电子陶瓷 |
| SSA-999S | 99.9% | 高纯高性能级·精密型 | 微小球径（0.5-5mm），专为纳米级研磨设计 |
与通用级HD系列（93%纯度）相比，SSA-999S的纯度提升带来了质的飞跃——杂质含量降低两个数量级以上，尤其对金属杂质（如Fe、Na⁺）和放射性元素（U/Th）实现了极严格的控制，确保不影响电子材料的介电性能和可靠性。
SSA-999S采用超高纯度氧化铝（Al₂O₃ ≥ 99.9%）经精密烧结与表面处理工艺制成，其关键性能指标与同系列产品对比如下：
| 项目 | SSA-999S | SSA-999W | SSA-995 | HD-11（通用级） |
|---|---|---|---|---|
| Al₂O₃ 纯度 | 99.9% | 99.9% | 99.5% | 93% |
| 密度 | 3.9 g/cm³ | 3.9 g/cm³ | 3.8 g/cm³ | 3.7 g/cm³ |
| 维氏硬度 (HV10) | 1,800 | 1,800 | 1,500 | 1,200 |
| 弯曲强度 | 450 MPa | 450 MPa | 400 MPa | 400 MPa |
| 磨耗率 | ~15 ppm/h | ~15 ppm/h | — | — |
SSA-999S的氧化铝纯度达到99.9%，意味着杂质含量控制在0.1%以内。对于MLCC介质材料、压电陶瓷、磁性材料等电子元件而言，即使是ppm级别的金属杂质污染也可能导致介电性能下降或短路风险。SSA-999S将金属溶出量控制在＜0.1ppm（符合FDA标准），从研磨源头杜绝污染。
维氏硬度达到1,800 HV10，是通用级HD（1,100 HV10）的1.6倍。更高的硬度意味着在研磨高硬度物料（如碳化硅、氮化硅、各类陶瓷粉体）时，SSA-999S的自身磨耗率极低（约15 ppm/h），既延长了研磨介质的使用寿命，又进一步减少了磨耗产生的微粉污染。
密度为3.9 g/cm³，约为氧化锆球（6.0 g/cm³）的65%。这一特性使得SSA-999S在保持足够研磨动能的同时，填充重量更低，设备能耗更小，符合节能分散/粉碎的理念。
弯曲强度达到450 MPa，与SSA-999W持平，远高于通用级产品。在高冲击力的纳米研磨工艺中，更高的抗弯强度有效防止研磨球碎裂，确保研磨过程的稳定性和一致性。
SSA-999S*显著的特征在于其专为精密研磨优化的尺寸规格：
| 规格 | 标准尺寸 (mm) |
|---|---|
| 球形 | φ0.5, 0.8, 1, 2, 3, 5 |
与SSA-999W（1-25mm）相比，SSA-999S的尺寸范围聚焦于0.5-5mm的微小球径，尤其包含0.5mm和0.8mm的超微球。这一规格设计使其能够满足：
纳米级分散：使用0.5-1mm球径可实现D50 ≤ 1μm的纳米级分散，适用于MLCC介质材料、纳米硅负极等高端应用
高比表面积研磨：微小球径提供更大的接触面积，研磨效率显著提升
SSA-999S采用电解抛光表面处理工艺，表面光洁度极高，具有以下优势：
金属溶出极低：表面钝化层有效抑制金属离子溶出，金属溶出量＜0.1ppm
减少初始污染：新球使用前无需长时间预磨合，仅需2-3小时即可达到稳定状态
易于清洗：光滑表面不易附着残留物料，便于批次间切换清洗
氧化铝球具有优异的耐磨性和耐久性，适用于研磨和分散天然原料、氧化铝以及电子元件的基材和封装材料。
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