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HQ-IC Wafer系列晶圆温度测量系统能够对工艺设备的环境进行全面现场监控，利用具备无线传感器晶片技术的晶圆和软件包及数据分析系统，HQ-IC Wafer可以提供关于各种晶圆和光罩工艺的全面信息。
IC Wafer晶圆采用无线、薄型设计，可以在所有光刻工艺设备中使用，可为关键生产工艺提供高精度的静态和动态温度测量。使用65个传感器来帮助光刻 工程师表征热均匀性并分析热循环的各个部分，包括传输、加热、冷却和稳定状态。内置的天线及无线充电电池在放入配套工作站后自动传输数据并充电，在上位机通过IC thermometer软件进行参数配置。
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