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磨抛一体机 RGP200
磨抛一体机 RGP200

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RGP200

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无锡

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吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司

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半导体行业专用仪器

RGP200

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 设备特点

 适用于4/6/8寸晶圆的先进封装/chiplet 等工艺/SOI衬底减薄抛光工序

 *厚可对应晶圆厚度在1800um(bonding wafer)

 薄可将晶圆加工至10um,  同时保持TTV≤1.5um

 可追加晶圆化学清洗模组,保证晶圆的表面洁净度满足fab工艺

 可配置MES协议转换模块SECS/GEM标准配置

 抛光部分终点检测功能,精确控制*终厚度

 Polish head支持3zone/5zone

 可针对各类化合物半导体/第三代半导体的减薄/抛光


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