首页 > 窑炉设备 > 粉体焙烧炉 >
LP-CVD多晶 掺杂多晶炉
LP-CVD多晶 掺杂多晶炉

参考价格

面议

型号

LP-CVD多晶 掺杂多晶炉

品牌

赛瑞达

产地

江苏

样本

暂无
赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司

会员

|

第2年

|

生产商

工商已核实

留言询价
核心参数
  • 非金属电热元件:

    其他
  • 金属电热元件:

    其他
  • 烧结气氛:

    其他
  • 温控精度:

    -
  • 最高温度:

    800 ℃
  • 额定温度:

    -
标签:

粉体焙烧炉

LP-CVD多晶 掺杂多晶炉

国产粉体焙烧炉

同类推荐

看了LP-CVD多晶 掺杂多晶炉的用户又看了

产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

咨询LP-CVD多晶 掺杂多晶炉

使用微信扫码拨号

中国粉体网认证电话,请放心拨打
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

优势

◆快速的工艺认证,可以极高的提升生产

◆专业的高效电池制造

◆良好的膜厚均匀性,较长的恒温区

◆更大的正常运行时间和更低的成本,良好的服务和支持确保了长期**的生产能力

◆Ivoc:>740mV(钝化后)

主要特点

◆产能:2200~2880pcs/管

◆管数:5管/6管

◆硅片尺寸:182-230mm硅片

◆压力控制:APC控制

◆系统控制:PLC和PC控制基础

◆通讯:Melsec,MES,I/O,SECS-II等

◆自动化集成:用于客户优化和MES控制集成的全自动化解决方案

◆运行时间:97%

硬件规格

◆**温度:800℃

◆温度均匀性:500℃~700℃±0.5℃

◆晶圆装载法:碳化硅悬臂桨

工艺规范

◆膜厚:1000A~3000A

◆厚度均匀性:<5%(片内/片间/批间均匀性)

◆未掺杂多晶硅(硅烷)

◆N型掺杂多晶硅PH3

◆P型掺杂多晶硅B2H6


创新点

暂无数据!

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
公司动态
暂无数据!
技术文章
暂无数据!
用户评论
发评论
暂无评论!
问商家
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉的工作原理介绍?
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉的使用方法?
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉多少钱一台?
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉的说明书有吗?
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉的报价含票含运费吗?
  • LP-CVD多晶 掺杂多晶炉有现货吗?
  • 0有办事机构吗?
  • 0销售电话是多少?
LP-CVD多晶 掺杂多晶炉信息由赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司为您提供,如您想了解更多关于LP-CVD多晶 掺杂多晶炉报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
同品牌产品
真空焊接炉
关注度 1908
LED合金炉
关注度 1260
LED退火炉
关注度 1422
卧式LPCVD
关注度 1631
免费
咨询
手机站
二维码